閃耀光柵加工工藝是制備高性能衍射光柵的核心技術(shù)，通過在基底材料表面刻蝕出具有特定傾角的周期性鋸齒狀溝槽，實(shí)現(xiàn)光能量的定向集中，兼具高衍射效率、精準(zhǔn)波長(zhǎng)選擇、工藝可控性強(qiáng)等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于光譜分析、激光技術(shù)、天文觀測(cè)等光學(xué)領(lǐng)域，是突破傳統(tǒng)光柵性能局限的關(guān)鍵工藝。?

　　高衍射效率與定向聚光是其核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)。傳統(tǒng)平面光柵存在光能量分散于各衍射級(jí)次的問題，而閃耀光柵加工工藝通過精確控制溝槽的閃耀角（通常為1°-30°），將80%以上的光能量集中到特定衍射級(jí)次，大幅提升光的利用率。在光譜儀中，采用該工藝制備的閃耀光柵可顯著增強(qiáng)目標(biāo)波長(zhǎng)的信號(hào)強(qiáng)度，使微量物質(zhì)的光譜檢測(cè)更靈敏；在激光調(diào)諧系統(tǒng)中，通過優(yōu)化閃耀角設(shè)計(jì)，能實(shí)現(xiàn)特定波長(zhǎng)激光的高效輸出與精準(zhǔn)調(diào)控。?
 

　　多工藝適配與高精度控制彰顯技術(shù)實(shí)力。根據(jù)基底材料（玻璃、金屬、半導(dǎo)體）與應(yīng)用需求的不同，閃耀光柵加工工藝可分為機(jī)械刻劃法、全息光刻-離子束刻蝕法、激光直寫法等。機(jī)械刻劃法通過金剛石刀具在基底上逐線刻劃，溝槽精度可達(dá)納米級(jí)，適用于制備大尺寸光柵；全息光刻-離子束刻蝕法利用干涉條紋形成光刻圖案，再通過離子束定向刻蝕形成閃耀結(jié)構(gòu)，適合批量生產(chǎn)高精度光柵。兩種工藝均能實(shí)現(xiàn)溝槽周期（0.5μm-100μm）與閃耀角的精準(zhǔn)控制，誤差可控制在0.1°以內(nèi)。?

　　復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性拓展應(yīng)用邊界。通過該工藝制備的閃耀光柵，表面可鍍制鋁、金等金屬膜或介質(zhì)膜，增強(qiáng)耐磨性與抗腐蝕性能，適配高溫、高濕度等嚴(yán)苛工作環(huán)境。在天文望遠(yuǎn)鏡的光譜儀中，金屬膜閃耀光柵能承受太空環(huán)境的輻射與溫度波動(dòng)；在工業(yè)在線檢測(cè)設(shè)備中，介質(zhì)膜閃耀光柵可抵御粉塵與化學(xué)氣體侵蝕，保證長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。?